Cегодня: 03 декабря 2021 RU UA EN
О сети Контакты

В Україні з'явилося сучасне підприємство світового рівня для виробництва нових приладів оптоелектроніки на основі нанотехнологій

03 декабря 2011
25 листопада 2011 року у Львові, на базі Науково-виробничого підприємства «Карат» ДП ПАТ «Концерн-Електрон» відбулося відкриття першої в Україні найсучаснішої виробничої дільниці Науково-виробничого концерну «Наука» із промислового виробництва наногетероструктур різного призначення (для над’яскравих світлодіодів, концентраторних сонячних батарей та потужних НВЧ транзисторів). НВК «Наука» у співробітництві з НВП «Карат» вперше в Україні організовано виробництво конкурентноздатних гетероепітаксійних приладових структур, у тому числі з нанорозмірними активними шарами, призначених для виготовлення світлодіодів та інших приладів твердотільної електроніки методом газофазної епітаксії з металоорганічних сполук. Для виробництва епітаксійних гетероструктур задіяний єдиний в Україні технологічний комплекс, основою якого є установка для осаджування епітаксійного шару на напівпровідникові пластини «Veeco D-180LDM MOCVD System», установка газофазної епітаксії «ГФЕ-Мікро», установка рідиннофазної епітаксії «ЕВАРС» та сучасна лабораторія із усім необхідним контрольно-вимірювальним обладнанням, що дає можливість вирішувати складні науково-технічні задачі. У рамках Державної цільової науково-технічної програми «Нанотехнології та наноматеріали» на 2010-2014 роки та українсько-російської Програми розвитку співробітництва у сфері нанотехнологій НВК «Наука» спільно з НВП «Карат» виконали низку науково-дослідних і дослідно-конструкторських робіт та створили унікальні технології в галузі твердотільної електроніки, які будуть впроваджені у виробництво на спільній ділянці. Так, наприклад, в НВК «Наука» розроблений і реалізований концептуально новий технологічний підхід до керування домішково-дефектною системою епітаксійних шарів, що забезпечує отримання приладних епітаксійних структур А3B5 з високою однорідністю та широким діапазоном змін електрофізичних параметрів. А в НВП «Карат» розроблені фізико-хімічні основи універсальних технологій формування епітаксійних оптоелектронних структур, які базуються на застосуванні впливу рідкісноземельних елементів на процеси кристалізації епітаксійних шарів А3В5. В Україні створено сучасне підприємство світового рівня для виробництва нових приладів оптоелектроніки на основі нанотехнологій. Це дасть змогу поступово наситити ринок України вітчизняними конкурентоздатними приладами, а в майбутньому розширити постачання продукції за межі держави. НВК „Наука” вже підписаний перший контракт на загальну суму 2,5 млн. доларів США на постачання наногетероструктур у країни ЄС.

Copyright (c) ГП "Укртехинформ" 2017